半导体工艺小讲堂(6)中 刻铝和去胶进程
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(即所谓的流片),被称为前工序,这是IC制造的最关键技能;晶圆流片后,其切开、封装等工序
光刻技能经过光刻胶将图画成功转移到硅片上,但是在相关制程完毕后就需要彻底除掉光刻胶,那么这个时分
,咱们了解了怎样来制造“饼干模具”。本期,咱们就来讲讲怎么选用这个“饼干模具”印出咱们想要的“饼干”。这一
(Encapsulation Process)”用于做包装密封,是指用某种资料包裹
都会排放有害废气。关于运用十分生动的气体的化学气相堆积或干法蚀刻,所谓的接近源头的废气运用点处理是常见的做法。相比之下,关于湿法化学
。 清洗进程是在不改动或损坏晶圆外表或基片的情况下去除化学物质和颗粒杂质。
可分为文章悉数概况:壹叁叁伍捌零叁叁叁四大类,即堆积、去除、图形化和电功能的修正。在每一步
是指以技能上的先进和经济上的合理为准则,以终究制成品的优秀质量为意图,对
。就硅来说,清洗操作的化学制品和东西已十分老练,有多年广泛深化的研讨以及重要的工业设备的支撑。所
工业这一技能革命国家栋梁的完美介绍,业界权威人士Peter Van Zant先生的这本作品是一本十分浅显,适用于初学者对整个
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